据新华社杭州9月2日电 国家知识产权局局长申长雨2日在杭州举行的第十届中国知识产权年会上表示，我国将继续坚定不移实施严格的知识产权保护制度，持续营造良好的创新环境和营商环境。

申长雨表示，我国将实施更加严格的商标侵权惩罚性赔偿制度，加大对商标恶意注册和囤积行为的打击力度；同时，加快推进专利法的修改，建立侵权惩罚性赔偿制度和药品专利保护期补偿制度，延长外观设计专利保护期，更好地保护专利权。

在审查业务层面，我国将持续提升知识产权审查质量和审查效率，提高专利、商标授权的及时性和权利的稳定性，更好地满足社会需求。

“实行严格的知识产权保护制度，不仅是我们履行国际义务的需要，更是建设创新型国家、实现自身发展的需要，是中国政府一以贯之的原则立场和既定方针。”申长雨说。